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2020年全國標委會微光刻分技術委員會成立大會暨第十屆微光刻技術交流大會在四川成都成功舉辦

11月9-10日,全國半導體設備和材料標準化技術委員會微光刻分技術委員會成立大會暨第十屆微光刻技術交流會在成都市隆重舉行,本屆會議由成都路維光電有限公司承辦。來自全球半導體、集成電路微光刻相關的學術、科研、投資等各界精英代表近200人參會,聚焦全球半導體集成電路產業發展、前沿技術以及產業創新等熱點,共同促進行業交流與協同創新。

微光刻分技術委員會成立大會暨第十屆微光刻技術交流會開幕式由中國科學院理論物理研究所書記、研究員副所長;全國半導體設備和材料標準化技術委員會微光刻分技術委員會主任馮稷主持。會上成都市高新區管委會副主任趙繼東致歡迎詞,成都高新區電子信息產業發展局副處長沈瀛致詞并對成都電子信息產業功能區招商環境作了介紹;成都路維光電有限公司董事長兼總經理杜武兵代表承辦方對此次前來參會的各位領導、專家、同仁表示熱烈的歡迎。國家集成電路產業投資基金投資股份有限公司總裁、全國半導體設備和材料標準化技術委員會主任委員丁文武致詞,向微光刻分技術委員會成立大會暨第十屆微光刻技術交流會順利召開表示熱烈的祝賀。

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丁文武總裁致詞

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杜武兵董事長致詞

會上,丁文武總裁宣讀國家標準管理委員會批文,為各位委員頒發證書并向各位資深顧問和專家頒發聘書。

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頒發證書、聘書

中國科學院微電子研究所研究員、全國半導體設備和材料標準化技術委員會微光刻分技術委員會委員兼秘書長陳寶欽對微光刻分技術委員會十年的發展歷程及國家標準制定情況作了匯報。

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陳寶欽秘書長匯報

本次會議齊聚微光刻領域的專家和技術人員,對微光刻技術、微光刻設備和材料技術的發展趨勢、最新研究成果等展開深入的交流與探討,為微光刻業界提供了一個最新發展動態的交流平臺。復旦大學、中科院微電子所、中科院上海應用物理所等9家單位代表為大家帶來了精彩的專業報告,報告涵蓋了微光刻技術、微光刻設備與材料技術等內容,與會代表們在會上分享了各自領域的最新進展及研究成果。對微光刻技術、微光刻設備和材料技術的發展趨勢、最新研究成果及進展等展開深入的交流,共同探討微光刻學界、業界前沿的重點、難點問題。

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在全國疫情防控常態化背景下,這次大會順利舉行來之不易。此次會議的召開為國內微光刻技術、光掩模制造技術、微納米制造技術與半導體掩模制造設備等領域的生產企業、科研院所、高等院校及用戶單位提供一個相互學習、交流的一個平臺,共促行業發展。會后,參會代表參觀了成都路維高世代光掩模版生產基地國內首條高世代G11 光掩模產線。路維光電是國內光掩模行業成立較早的企業之一,光掩模產品全面配套國內高世代、新型顯示及半導體產業。經過23年的努力與沉淀,已發展為我國唯一全尺寸光掩模研發制造企業。成都路維超大尺寸超高精密光掩模產品已正式供貨,我國顯示面板用超大尺寸高精密光掩模版取得了階段性的突破,加速推進新型顯示上游關鍵材料國產化進程。

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專家領導蒞臨指導成都路維

下屆微光刻會議將于2021年在中國科學院微電子研究所南京智能技術研究院舉辦,屆時,微光刻界研究所、院校、企業將再次聚首南京,共謀產業發展大計。

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